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磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能

【作  者】:肖剑荣 著 【版  次】:1-1 【定  价】:¥ 57 【装  帧】:平装 【分 类 号】:TF811 【出 版 时 间】:2019-04 【I S B  N】:9787517074397 【出 版 社】:中国水利水电出版社 【入 选 项 目】:
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简介:

磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术,其制备工艺可调剂参数较多,通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系,探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。全书结构合理,条理清晰,内容丰富新颖,可供相关工程技术人员参考使用。

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